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光亮酸性镀铜的设备配置(二)

Equipment configuration of bright acid copper plating-PartⅡ
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摘要 介绍了光亮酸性镀铜工艺用测温探头、冷却设备、搅拌装置和直流电源的选择。指出了化学除膜工序的必要性。 The selection of temperature-measuring probe, cooling device, agitator and direct current supply for bright acid copper plating process was described. The necessariness of chemical defilming procedure was pointed out.
作者 袁诗璞
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期19-22,共4页 Electroplating & Finishing
关键词 光亮酸性镀铜 测温探头 冷却器 搅拌器 电源 除膜 bright acid copper plating temperature- measuring probe cooler agitator power supply defilming
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