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分子束外延GaN/GaAs立方相异质结构的电子显微分析 被引量:2

Electron Microscopy Analysis of GaN/GaAs Cubic Heterostructure Grown by MBE
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摘要 运用透射电子显微镜分析了分子束外延的立方相GaN/GaAs异质微观结构.在GaN外延层中,观察到大量的、不对称的{111}面缺陷(层错和微孪晶),以及失配位错在该大失配界面上的非优化排列。 Abstract A cubic GaN/GaAs heterostructure grown by molecular beam epitaxy (MBE) is studied by transmission electron microscopy. It is observed that a lot of {111} planar defects (stacking faults and microtwins) distributed asymmetrically in this GaN film and misfit dislocations lay non optimally at the interface. The mechanism of forming planar defects is discussed.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期58-61,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金 国家博士后流动基金
关键词 氮化角 砷化镓 电子显微分析 分子束外延 Electron microscopy Microstructure Molecular beam epitaxy
  • 相关文献

参考文献3

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引证文献2

二级引证文献9

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