低压等离子体清洗:一种用于严格清洗的工艺
-
1张正模.用氧等离子体清洗铝表面[J].等离子体应用技术快报,1998(4):6-7.
-
2火苗.用微波等离子体源SLANⅡ的远距离清洗和直接清洗[J].国外核聚变与等离子体应用,1998(3):76-79.
-
3葛绪雷,滕浩,郑轶,马景龙,张伟,毛婧一,陈黎明,王兆华,李玉同,蒋刚,贺端威,魏志义.飞秒激光啁啾脉冲放大中压缩光栅的等离子体清洗[J].中国激光,2012,39(4):27-30. 被引量:5
-
4云中客.用等离子体治疗牙病[J].物理,2006,35(11):982-982.
-
5聂磊,蔡坚,贾松良,王水弟.微电子封装中等离子体清洗及其应用[J].半导体行业,2005(6):63-66. 被引量:3
-
6李绪平,祖小涛,袁晓东,蒋晓东,吕海兵,郑万国,唐灿,李珂,向霞,郭袁俊,徐世珍,袁兆林.CO_2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值[J].强激光与粒子束,2007,19(10):1739-1743. 被引量:8
-
7郝雷,刁训刚,胡小草,张鲁豫,郝维昌,王天民.柔性衬底ITO薄膜的制备及其光电性能研究[J].真空科学与技术学报,2008,28(3):256-260. 被引量:11
-
8武德起,乔晓东,李锋,闫正,赵庆勋,王英龙,刘保亭.用于薄膜外延生长的单晶基片RHEED研究[J].河北大学学报(自然科学版),2006,26(4):373-376.
-
9Application of Laser Ablation to Cleaning Process of the Corrosion Chloride Patina Formed on Bronze Surfaces in Air and Marine Water[J].Journal of Physical Science and Application,2013,3(3):135-140. 被引量:2
-
10王依,卢启鹏,高云国.碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响[J].中国激光,2017,44(3):164-169. 被引量:1
;