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Co/Si多层膜的模型结构研究

The Research of Structure Model for Co/Si Multilayer
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摘要 对小角X射线衍射法测出的Co/Si多层膜的平均折射率修正值为负的原因作了进一步的分析,提出了修正的具有化合物层的多层膜结构模型,运用光学多层膜理论计算小角衍射强度时代入了负的折射率修正值δ,得到的理论计算曲线与实验曲线趋于一致. To analyze the negative revised average refraction index value of Co/Si multilayer measured by small angle X ray diffraction further,a corrected multilayer structure model with compound layer has been advanced.Puting the negative revised refraction index value into the optic multilayer theory caculation,the theoretical diffraction curve is consistent with the experimental one.
机构地区 云南大学物理系
出处 《云南大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1999年第1期35-37,共3页 Journal of Yunnan University(Natural Sciences Edition)
基金 云南省自然科学基金
关键词 多层膜 钴/硅多层膜 模型结构 X射线衍射 Co/Si multilayer,small angle diffraction,revised refraction index value
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