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直流等离子体喷射镀膜设备的传热数学模型 被引量:1

Mathematical Model of Heat Transfer in an Apparatus Used toCoated Film by Direct Current Plasma Jet
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摘要 介绍了对直流等离子体喷射镀膜设备中传热过程所进行的理论和实验研究,探讨影响上述复杂传热过程的各种因素的影响规律及各种因素之间的相互关系,以及对有效控制金刚石膜形成的影响程度.在理论研究的基础上,建立了射流温度分布以及辐射、寻热及基片热平衡等5组数学模型,并进行了编程计算,计算结果与实验结果对比,证明两者吻合很好. Energy system of the equipment used to make diamond film by the direct currentplasma jet (DC-PJ) was studied. Based on analyzing mechanism of heat transfer, the theory andexperiment which research the level of varies of factors and the relationship of the factors were introduced. Five mathematic models according to temprature distrbution, radiation,convection,transferenceand heat balance were set up and calculated by this program, and got a consistent result both bycalculation and by experiment.
出处 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期67-71,共5页 Journal of University of Science and Technology Beijing
基金 国家"863"高技术资助!Z-38-03
关键词 传热 等离子体 镀膜设备 金刚石膜 DC-PJ vacuum plasma impact heat transfer
  • 相关文献

参考文献5

  • 1钟国舫.大功率直流等离子体喷射金刚石膜大面积离速沉积工艺研究(硕士论文)[M].北京:北京科技大学,1994..
  • 2Zhuang Q D,Diamond Related Materials,1994年,3卷,319页
  • 3钟国舫,硕士学位论文,1994年
  • 4陈熙,高温电高气体的传热与流动,1993年,1-84,329-417,474-481页
  • 5金佑民,低温等离子体物理基础,1983年

同被引文献2

引证文献1

二级引证文献5

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