大容量等离子去胶机在MOS电路生产中的应用
-
1奚柏清.新型全集成连续时间低通滤波器[J].南京邮电学院学报,1991,11(4):69-74.
-
2季叶克.激光在集成电路生产中的应用将迅速增长[J].国外激光,1989(6):36-37.
-
3小林.激光在液晶显示器生产中的应用[J].今日电子,1995(1):103-104.
-
4赖祥华,郑晓春,崔晓蓉.SMT在摄像机生产中的应用[J].电子工艺技术,1990(6):18-20.
-
5楚宇新,刘言芝.微机测试技术在收录机生产中的应用[J].电子技术(上海),1989,16(5):6-8.
-
6刘军,胡谋.CALAS—一个MOS电路开关级逻辑分析与模拟系统[J].微型电脑应用,1991(3):244-251.
-
7华亚平,朱袁正.高均匀性高选择性的多晶硅刻蚀工艺[J].微电子技术,1994,22(2):21-25. 被引量:1
-
8尤宁生,王会环.SMT在扫频仪生产中的应用开发[J].电子工艺简讯,1992(10):2-4.
-
9李祥,孙峰.等离子刻蚀工艺中UV坚膜技术研究[J].微电子技术,1994,22(1):36-39. 被引量:2
-
10陆静琦,郭邦杰.导电胶在半导体器件生产中的应用[J].电子工艺简讯,1990(3):15-17.
;