期刊文献+

太阳能级多晶硅中痕量金属杂质含量的ICP-MS测定 被引量:14

Determination of Trace Metal Impurities in Solar Grade Polysilicon by ICP-MS
下载PDF
导出
摘要 研究了电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS),测定太阳能级电池用硅材料中Al,Fe,Ca,Mg,Cu,Zn,Cr,Ni和Mn等痕量元素的分析方法。考察测量过程中的质谱干扰及基体元素产生的基体效应,讨论了可能的消除方法,考察了内标元素Sc,Y,Rh等对基体抑制效应的补偿。采用Sc和Rh做内标元素补偿基体效应和灵敏度漂移,在测定中取得良好的效果。样品的加标回收率为90.0%~107.1%,相对标准偏差(RSD)0.9~3.4%,检出限为0.030~0.500μg/L。 This paper describes the method for the determination of trace Al、Fe、Ca、Mg、Cu、Zn、Cr、Ni and Mn in solar grade polysilicon by inductively coupled plasma mass spectrometry.The mass spectral interference and the matrix effect are discussed.Sc and Rh are used as internal standard to corrected the interference due to the effects of matrix and interface efficiently.Under the optimum conditions the detection limits for impurities were in the range of 0.030 g/L~0.500 g/L.The recoveries were within 90.0%~107.1% and relative standard deviation within 0.9%~3.4%.
出处 《电子科技》 2010年第8期40-42,共3页 Electronic Science and Technology
关键词 ICP-MS 多晶硅 金属杂质 ICP-MS polysilicon metal impurities
  • 相关文献

参考文献4

  • 1Date AR,Graya L,著.李金英,姚继军,译.电感耦合等离子体质谱分析的应用[M].北京:原子能出版社,1998.
  • 2贾维斯KE 格雷AL 霍克RS 尹明 李冰译.电感耦合等离子体质谱手册[M].北京:原子能出版社,1997.219.
  • 3Robert Thomas. Practical Guide to ICP - MS [ M]. Newyork : Marcel Dekker, 2003.
  • 4宋武元,张桂广,郑建国.电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定纯硅中硼等13个杂质元素[J].理化检验(化学分册),2005,41(11):806-808. 被引量:30

二级参考文献8

共引文献50

同被引文献167

引证文献14

二级引证文献88

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部