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用于集成电路的先进电镀铜化学品
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摘要
德国巴斯夫(BASF)公司与美国IBM公司合作开发出一种先进的电镀铜化学品,可满足现今及未来芯片科技的需求。这项创新的化学品解决方案赋予电化学沉积铜工艺迅速、无缺陷的超填孔(superfill)能力,以制造更可靠、更优质的芯片。
出处
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第8期93-93,共1页
Modern Chemical Industry
关键词
化学品
电镀铜
集成电路
美国IBM公司
电化学沉积
合作开发
巴斯夫
可满足
分类号
TQ086.5 [化学工程]
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现代化工
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