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用于集成电路的先进电镀铜化学品

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摘要 德国巴斯夫(BASF)公司与美国IBM公司合作开发出一种先进的电镀铜化学品,可满足现今及未来芯片科技的需求。这项创新的化学品解决方案赋予电化学沉积铜工艺迅速、无缺陷的超填孔(superfill)能力,以制造更可靠、更优质的芯片。
出处 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2010年第8期93-93,共1页 Modern Chemical Industry
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