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Ni—SiC复合电镀沉积机理的研究 被引量:1

Disquisition on Sediment Mechanism of Ni-SiC Composite Plating
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摘要 对Ni—SiC体系的复合电镀的电沉积机理进行了探讨和研究,并提出一套求动力学参数的方法,经实验证实,理论推导与实验结果相符。 The sediment mechanism of compound plating of Ni-SiC system is discussed. The methodsto seek for kinetic parameters are brought forth. It proves that the experimental results are the same withthe theoretical reasoning.
出处 《华东冶金学院学报》 1999年第3期235-239,共5页
关键词 Ni-SiC镀层 复合镀 电沉积 Ni-SiC, Compound plating, Electrodeposit
  • 相关文献

参考文献1

  • 1郭鹤同 张三元.复合镀层[M].天津:天津大学出版社,1988.12.

同被引文献1

  • 1黄清安.电沉积Ni-P合金工艺条件摸索[J].电镀与装饰,1995,8(3):41-45.

引证文献1

二级引证文献3

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