《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

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摘要由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积（CVD）、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、

机构地区真空杂志社

出处《真空》 CAS 北大核心 2010年第5期48-48,共1页 Vacuum

关键词真空镀膜设备真空镀膜技术出版发行 ITO导电玻璃真空蒸发镀膜化学气相沉积冶金工业工程技术

分类号 TN305.8 [电子电信—物理电子学]

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1《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行[J].真空,2011,48(6):68-68.
2《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行[J].真空,2012,49(4):16-16.
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10《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行[J].真空,2012,49(5):6-6.

真空

2010年第5期

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