美国DSI公司推出用于CMOS成像的改进型红外滤光片

据news.thomasnet.com网站报道,作为高耐久性薄膜光学涂层的制造商,美国DSI公司于今年4月宣布,他们专门研制了一款可在相机应用中用于减少红外光和使可见光透过的改进型滤光片。这款改进型CMOS红外滤光片可以阻挡99．5％的红外光，同时可让85％以上的可见光透过。