摘要
i2 +离子的d轨道电子受所处微环境的扰动而减少 ,导致其NO吸附频率位移 ,其程度取决于Ni2 +所处微环境的性质 ;位于Y分子筛SⅡ 和SⅡ′,SI′位以及γ Al2 O3 表面Ni2 +的NO吸附频率分别为 1 90 5 ,l90 0和l85 5～l875cm-1.同时利用不同微环境对Ni2 +离子NO吸附频率的影响 ,研究了Ni2 +在USY分子筛、γ Al2 O3 及MS双组分载体各微环境间的分布 ,并讨论了NiO含量对Ni2 +分布行为的影响 .
出处
《科学通报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第9期937-941,共5页
Chinese Science Bulletin
