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富士胶片推出激光直接雕刻柔印CTP系统

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摘要富士胶片新的B2幅面激光直接雕刻柔性版CTP系统将在Labdlexpo Americas2010展览会上正式亮相，采用这种技术，可以简化目前已存在的激光烧蚀掩膜技术繁琐的柔性版制版工艺（包括uv曝光，

作者晓宇

出处《广东印刷》 2010年第5期4-4,共1页

关键词 CTP系统激光烧蚀富士胶片雕刻柔印掩膜技术 uv曝光制版工艺

分类号 F416.84 [经济管理—产业经济]

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广东印刷

2010年第5期

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