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陶氏电子材料新推出可稀释硅溶胶研磨液,降低制程缺陷程度
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摘要
陶氏电子材料近日推出新一代KLEBOSOL II 1630研磨液,这是一种进阶的可稀释的研磨液,它综合了硅溶胶研磨液和气相二氧化硅研磨液的优点。KLEBOSOL研磨液是为先进半导体制造技术而研发的,它为CMP提供了一种性能卓越,低耗材成本的产品。
出处
《中国集成电路》
2010年第10期2-2,共1页
China lntegrated Circuit
关键词
电子材料
研磨液
硅溶胶
缺陷程度
稀释
半导体制造技术
制程
气相二氧化硅
分类号
TN04 [电子电信—物理电子学]
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中国集成电路
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