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溅射富Ti-TiNi形状记忆合金薄膜 被引量:5

Sputtered Thin Films of TiRich TiNi Shape Memory Alloy
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摘要 采用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和电阻-温度曲线等方法研究了近等原子的富TiTiNi合金薄膜的析出相和相变等特征,并对结果进行了详细讨论。 Some features of precipitated phases and phase transformation in thin films of the Tirich TiNi alloy have been using Xray diffraction,transmission microscopy and resistance transition method. The results are discussed in detail.
机构地区 吉林大学
出处 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期89-92,共4页 Rare Metal Materials and Engineering
关键词 溅射 形状记忆合金 薄膜 相变 析出相 precipiated phase,phase transformation,sputter,TiNi shape memory alloy
  • 相关文献

参考文献5

  • 1Gong F F,Mater Lett,1995年,25卷,13页
  • 2Yang Y Q,Mater Lett,1995年,22卷,137页
  • 3Ishida A,表面技术,1995年,46卷,7期,628页
  • 4Lin H C,Mater Chem Phys,1994年,37卷,184页
  • 5Gaolieu F J,IEEE Trans Magnetics,1975年,11卷,227页

同被引文献71

引证文献5

二级引证文献11

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