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δ掺杂硅n-i-p-i结构多量子阱吸收边的漂移 被引量:1

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摘要 本文报告了在δ掺杂硅n-i-p-i结构多量子阱中使用光电流技术观测到吸收边的场驱动蓝移,它不同于在GaAs和GeSi超晶格中观察到的结果.这个新现象能够被载流子注入引起有效带隙的展宽所解释.基于有效质量近似,计算了自洽势和有效带隙随额外载流子浓度的变化,理论结果证实了实验结果的正确性.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第6期497-500,共4页 半导体学报(英文版)
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Lang D V,Appl Phys Lett,1985年,47卷,1333页

同被引文献3

引证文献1

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