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PolarVeri——甚大规模集成电路版图验证工具包

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摘要 一.引言 在亚微米、深亚微米工艺下,芯片集成度越来越高。目前单片集成几百万、上千万晶体管已不罕见。集成电路发展到甚大规模,对版图验证工具提出了新的要求。原有的版图验证工具在验证速度、精度等方面已显得力不从心,而且对于存储资源的要求也远远超出了实际可能。
作者 朱胥 魏文静
出处 《世界电子元器件》 1999年第4期21-22,共2页 Global Electronics China
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