期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位

下载PDF

导出

摘要 SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH ＆ Co．KG宣布，已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产，是用于下一代光刻领域的完整掩模流程平台。

出处《电子工业专用设备》 2010年第12期57-57,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词光刻设备市场技术下一代光刻 GmbH APE 掩模

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

1SUSS MicroTec提高BlueRay^TM探测系统的性能[J].电子技术（上海）,2007,34(4):80-80.
2刘加峰,胡存刚,宗仁鹤.光刻技术在微电子设备的应用及发展[J].光电子技术与信息,2004,17(1):24-27. 被引量：5
3SUSS MicroTec推出用于CMOS图像传感器的新型生产用晶圆键合机[J].电子工业专用设备,2008,37(9):68-68.
4SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位[J].半导体技术,2011,36(1):95-95.
5纳米压印跃过IDM龙门[J].集成电路应用,2007,24(4):34-34.
6SUSS光刻机实现大面积纳米压印光刻[J].电子工业专用设备,2008,37(10):77-77.
7邱孟通,P.Choi.极紫外光刻光源[J].半导体技术,2006,31(6):406-408. 被引量：2
8SUSS MicroTec连续10年荣登十佳物料传输设备供应商排行榜榜首[J].电子工业专用设备,2008,37(7):72-72.
9SUSS MicroTec晶片键合机在先进MEMS制造行业继续占有重要市场份额[J].半导体行业,2009(1):68-68.
10吉时利发布用于半导体器件探测和特征分析设备的混合信号互连解决方案[J].电子与电脑,2009(5):84-84.

电子工业专用设备

2010年第12期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部