期刊文献+

多晶硅薄膜ELC制备方法中控制纵向热流的探索 被引量:1

下载PDF
导出
摘要 准分子激光晶化(ELC)制备多晶硅薄膜是当前制造低温多晶硅TFT的主流技术。本文在非晶氮化硅栅绝缘层中特定区域引入气泡区或者微孔区,大幅度减小该区域的热导率,从而在后面的准分子激光退火过程中建立起适合于晶粒超级横向生长的温度梯度,并初步分析了该方案的可行性。
作者 刘松林
出处 《科技创新导报》 2010年第32期11-11,13,共2页 Science and Technology Innovation Herald
  • 相关文献

参考文献2

  • 1尹盛,刘陈,钟志有,王长安,徐重阳.低温多晶硅TFT技术的发展[J].现代显示,2003(1):33-37. 被引量:13
  • 2Rainri, V., Fallica, P.G., Percolla, G., et al. Gettering of metals by voids in silicon[J]. J.Appl.Phys. 1995, 78(6)..3727-3735.

二级参考文献3

  • 1.低温多晶硅(LTPS)TFT LCD产业概况[R].http://www.asiawired.com.tw/cn/report/02/43.html,.
  • 2.LTPS和OLED将成未来热点竞争技术[R].http:∥www.optoelectro.com,.
  • 3黄锡珉.显示技术新进展[J].液晶与显示,2000,15(1):1-5. 被引量:52

共引文献12

同被引文献6

引证文献1

二级引证文献5

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部