长波长光敏引发聚合体系

Study on the Long wavelength Photosensitive Polymerization Systems

光敏剂 ３乙酰 基７ Ｎ， Ｎ二 乙氨 基 香豆 素（ Ｋ Ｃ１） 、３（４ Ｎ， Ｎ二乙 氨 基肉 桂 酰 基）７ Ｎ， Ｎ二乙氨基 香豆素（ Ｋ Ｃ２） 、３（４ Ｎ ， Ｎ二甲氨 基肉 桂酰 基）７ Ｎ， Ｎ二 乙氨 基香 豆素（ Ｋ Ｃ３） 分 别与引发剂邻 氯代双 咪唑（ ｏ Ｃｌ Ｈ Ａ Ｂ Ｉ） 、助引 发 剂十 二烷 基 硫醇（ Ｓ Ｈ） 组成 ３ 个 波长 光 敏引 发 体系． 在可见光 的照射 下，用膨胀 计法研 究了由 Ｋ Ｃ１ 与 ｏ Ｃｌ Ｈ Ａ Ｂ Ｉ、 Ｓ Ｈ 组 成的 光敏 体系 中各 个组 分对 甲基丙烯酸 甲酯聚 合反应速 率的 影 响． 胶 印 Ｐ Ｓ 版研 究 表明 分 别 由 Ｋ Ｃ１ 、 Ｋ Ｃ２ 、 Ｋ Ｃ３ 与 ｏ Ｃｌ Ｈ Ａ Ｂ Ｉ、 Ｓ Ｈ组成的 ３ 个体系 在可见 光的曝光 下，均可 得到较好 的文字 图像．

Three long wavelength photosensitive initiation systems composed of photosensitizer 3 acetyl 7 N,N diethyl aminocoumarin(KC1), 3 (4 N,N diethylaminocinnamoyl) 7 N,N die thylaminocoumarin (KC2), 3 (4 N,N dimethylaminocinnamoyl) 7 N,N diethylaminocou marin (KC3) respectively with photoinitiator 2 chlorohexaarylbiimidazole( o Cl HABI) and coinitiator n dodecanethiol(SH) have been studied. The relationship between the photopolymerization rate of MMA under visible light and concentration of KC1, o Cl HABI and SH in a system has veen examined by dilatometry. Good images in offset printing was obtained when the studied systems were irradiatied by visible light.