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集成铁电电容的制备和研究 被引量:1

Fabrication & Test of Integrated Ferroelectric Capacitors
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摘要 给出了一种在CMOS电路基础上制备集成铁电电容的方法。 One practical approach of forming integrated ferroelectric capacitor on CMOS circuit is described.
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期26-29,共4页 Semiconductor Technology
基金 国家自然科学基金 上海应用材料研究中心(AM)项目 "863"项目资助
关键词 铁电薄膜 不挥发 存储器 集成 FerroelectricThin filmNonvolatileMemory
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