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集成铁电电容的制备和研究
被引量:
1
Fabrication & Test of Integrated Ferroelectric Capacitors
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摘要
给出了一种在CMOS电路基础上制备集成铁电电容的方法。
One practical approach of forming integrated ferroelectric capacitor on CMOS circuit is described.
作者
姚海平
钟琪
黄维宁
姜国宝
洪晓菁
汤庭鳌
机构地区
复旦大学电子工程系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第4期26-29,共4页
Semiconductor Technology
基金
国家自然科学基金
上海应用材料研究中心(AM)项目
"863"项目资助
关键词
铁电薄膜
不挥发
存储器
集成
FerroelectricThin filmNonvolatileMemory
分类号
TN384 [电子电信—物理电子学]
TN304.9 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
1999年 第4期
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