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电子束辐照a-Si的模拟计算 被引量:1

Simulation Calculation of Electron BeamIrradiation Amorphous Silicons
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摘要 在分析了非晶硅(a-Si)材料的模型后,提出了一种能够反映a-Si材料结构特点的无规网络模型。以此模型为基础,用MonteCarlo方法模拟计算了能量为0.5~2.5MeV的电子束与a-Si的相互作用,得到了一些对电子辐照实验有参考价值的结果。 After analysing amorphous silicon(aSi),the paper puts forward a nonregular network model which can mirror the structure feature of aSi.We calculated the interaction between electron beam with energy from 05 to 25MeV and aSi by means of the Monte Carlo simulation and the nonregular network model,and obtained some results which would have some reference value to the electron irradiation experiments.
机构地区 暨南大学物理系
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期36-40,共5页 Semiconductor Technology
基金 国务院侨办重点学科科研基金
关键词 非晶硅 电子辐照 模拟计算 Amorphous siliconsElectron irradiationMonte Carlo simulation
  • 相关文献

参考文献5

  • 1高翼慈.无机化学(第2版)[M].北京:高等教育出版社,1997.444-451.
  • 2高翼慈,无机化学(第2版),1997年,444页
  • 3Yu N,Mater Chem Phys,1996年,46卷,161页
  • 4何宇亮,非晶态半导体物理学,1989年,120页
  • 5何宇亮,非晶态半导体物理学,1989年,49页

同被引文献1

引证文献1

二级引证文献1

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