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化学气相沉积TiN热力学研究

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摘要本文详细分析了TiCl_4-H_2-N_2系化学气相沉积TiN的化学过程及其热力学。计算结果表明:TiN的形成历程是TiCl_4进入体系的初期首先是气相还原反应,当TiCl_4量达到一定程度时还原产物输运到基体表面主要进行的是固气界面沉积TiN的反应。

作者张德胜吴大兴

机构地区西南交通大学材料科学及工程系

出处《四川冶金》 CAS 1990年第1期67-70,共4页 Sichuan Metallurgy

关键词化学气相沉积 TIN 热力学

分类号 TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]

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四川冶金

1990年第1期

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