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高效太阳能电池薄膜生长工艺优化模型的研究及其意义 被引量:2

A study on growth law and optimazation process model of thin film growth for solar cells
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摘要 薄膜化是降低太阳电池成本的主要手段和发展趋势,薄膜生长设备研制与通用设备的最大区别就是要与生产工艺密切配合。本文提出一种用于太阳能薄膜生长的工艺建模新方法,将计算智能技术与分形理论综合集成,利用计算智能方法提供的混合智能系统及分形理论的数学工具进行系统描述,建立薄膜生长复杂过程的基本模型,以得到生长过程参数与薄膜宏观性能之间的定量解析关系。
出处 《制造业自动化》 北大核心 2011年第5期43-46,共4页 Manufacturing Automation
基金 上海市重大科技攻关项目(10DZ1204500) 上海市重点学科建设项目(Y0102)
  • 相关文献

参考文献29

  • 1Fischer-Cripps A C.Nanoindentation.New York:SpringVerlag,lnc.2002.
  • 2B.Rech,T.Roschek,T.Repmann,et al.Microcrystalline Silicon for Large Area Thin Film Solar Cells.Thin Solid Films,2003,427:157-165.
  • 3M.Kondo,S.Suzuki,Y.Nasuno,et al.Recent Development in the High Growth Rate Technique of Device-Grade Microcrystalline Silicon Thin Film.Plasma Sources Sci.Technol.2003,12(4):S111-8116.
  • 4C.Niikura,M.Kondo,A.Matsuda.Preparation of Microcrystalline Silicon Films at Ultra High-Rate of 10nm/S Using High-Density Plasma,J.Non-Cryst.Solids,2004,338-340(15):42-46.
  • 5G.Y.Meng,H.Z.Song,H.B.Wang,et al.Progress in ion-transport inorganic membranes by novel chemical vapor deposition(CVD)techniques,Thin Solid Films,2002,409(1):105-111.
  • 6A.Matsuda,T.Kaga,H.Tanaka,et al.Glow-Discharge Deposition of a-Si:H from Pure Si2h6 and Pure Sih4,Jpn.J.Appl.Phys.,1983,22:Ll 15-L117.
  • 7A.A.Howling,J.-L.Dorier,Ch.Hollenstein,et al.Frequency Effect in Silane Plasmas Enhanced Chemical Vapor Deposition,J.Vac.Sci.Techno1.1992,10(4):1080-1085.
  • 8H.Keppner,J.Meier,P.Torres,et al.Microcrystalline Silicon and Micromorph Tandem Solar Cells.Appl.Phys.A:Mater.Sci.Process.1999,69(2):69.
  • 9L.Guo,M.Kondo,M.Fukawa,Etal.High Rate Deposition of Microcrystalline Silicon Using Conventional Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition,Jpn.J.Appi.Phys.1998,37:L 1116-L 1118.
  • 10J.K.Rath,R.H.J.Franken,A.Gorgijn,et al.Growth Mechanism of Microcrystalline Silicon at High Pressure Conditions,J.Non-Cryst.Solids,2004,338-340(15):56-60.

二级参考文献328

共引文献101

同被引文献20

  • 1袁少珍.广东第一块硅基薄膜太阳能电池诞生[J].中国检验检疫,2012(1):55-56. 被引量:1
  • 2耿新华,张建军.硅基薄膜太阳电池新进展[J].新材料产业,2007(7):28-31. 被引量:3
  • 3A.H.pfund. Highly reflecting films of zinc sulphide[J].F.Opt.Soc.Amer., 1934 (24) : 99-102.
  • 4B.E.Yoldas.Introduction and effect of structural variations in inorganic polymers and glass networks[J]. Journal of Non- Crystalline Solids, 1982, 51 ( 1 ) : 105-121.
  • 5M.J.Ariza, F.Matin , D.Leinen. XPS Surface Analysis of Monocrystalline Silicon Solar Cells for Manufacturing Control [J].Appl Phys A, 2001 (73) : 579-584.
  • 6宋晨路,朱岳江,刘涌等.一种用于太阳能电池的薄膜及其制备方法,中国,CN102184977A[P],2011-09-14.
  • 7Nunes C , Teixeira V, Prates M, et al.Grade Selective Coatings Based on Chromium and Titanium Oxynitride[J].Thin Solid Films , 2003 (442) : 173-178.
  • 8Lien Shui-Yang, Wu Bing-Rui, Mao Hsin-Yuan, et al.Simultaneous Recrystallization , Phosphorous Diffusion and Antireflection Coating of Silicon Films Using Laser Treatment [J ] . Thin Solid Films , 2006 ( 496 ) : 643 - 648.
  • 9孙海燕,吕斌.大型薄膜硅太阳能电池模组大规模生产方案[J].上海电力,2008,21(3):281-283. 被引量:2
  • 10黄华义.玻璃表面镀制增透膜的机理分析[J].国外建材科技,2008,29(6):34-38. 被引量:10

引证文献2

二级引证文献4

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