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FPGA厂商采用创新工艺技术降低28nm器件功耗

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摘要在28nm节点下,传统技术在器件功耗改善方面已经达到性能极限,两家领先FPGA厂商都选择了高K金属栅极创新工艺,但在具体产品线应用策略上却各有不同。

作者李明骏

出处《集成电路应用》 2011年第2期23-23,共1页 Application of IC

关键词新工艺技术 FPGA 功耗器件厂商性能极限创新工艺金属栅极

分类号 TN791 [电子电信—电路与系统]

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集成电路应用

2011年第2期

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