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基于3英寸0.25μm工艺的GaN HEMT宽带功率MMIC
GaN HEMT Wide-band Power MMIC Based on 3'0.25 μm Process
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摘要
GaN HEMT具有工作电压高、功率密度大、输出阻抗高、散热性能好等特点,大大扩展了功率MMIC的设计空间。具体表现在:GaN HEMT可工作于高电压下,同样的输出功率工作电流较小,大大简化了系统电源和电磁兼容设计;高密度的输出功率使得芯片面积和器件的封装得以减小;GaN HEMT更高的输出阻抗,扩展了器件工作带宽;
作者
张斌
陈堂胜
任春江
余旭明
机构地区
单片集成电路与模块国家级重点实验室南京电子器件研究所
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期F0003-F0003,共1页
Research & Progress of SSE
关键词
HEMT
0.25μm工艺
功率密度
MMIC
GaN
宽带
电磁兼容设计
输出阻抗
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
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固体电子学研究与进展
2011年 第1期
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