期刊文献+

KCl-NaCl-NaF-SiO_2熔盐体系中硅离子的结晶机理 被引量:1

The Crystallization Mechanism of Si Ion in KCl-NaCl-NaF-SiO_2 Molten Salt
下载PDF
导出
摘要 在KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中,以铂丝为参比电极、研究电极,高纯石墨坩埚为辅助电极,采用循环伏安法和计时电流法对硅离子的结晶机理进行了研究。结果表明:该体系中硅的电结晶过程符合扩散步骤控制的半球形三维晶核连续长大成核机理;增大过电位可使晶核密度增加,有利于获得较好的沉积硅层。 Pt as reference and reseach electrode,high pure graphite crucible as assistant electrode,the crystallization mechanism of Si ion on Pt electrode was investigated in KCl-NaCl-NaF-SiO2 molten salt by using cyclic voltammetry and chronoamperometry.The results indicated that process of Si crystallization was hemispheric tridimensional crystal nucleus and continuous growing procedure;the density of crystal nucleus could be increased and good sedimentary formation could be obtained if excessive potential was properly increased.
机构地区 河北联合大学
出处 《有色金属(冶炼部分)》 CAS 北大核心 2011年第3期16-18,共3页 Nonferrous Metals(Extractive Metallurgy)
基金 国家自然科学基金资助项目(50674039)
关键词 SIO2 KCl-NaCl-NaF 循环伏安法 计时电流法 SiO2 KCl-NaCl-NaF Cyclic voltammetry Chronoamperometry
  • 相关文献

参考文献8

  • 1吴纯素.熔盐电沉积技术进展.材料保护,1990,23(1):58-61.
  • 2段淑贞,乔芝郁.熔盐化学-原理和应用[M].北京:冶金工业出版社,1990.202-203.
  • 3Fellner P,Matiasovsky K.Electrolytic silicide coating in fused salts[J].Electrodeposition and Surface Treatment,1975(3):235 -244.
  • 4Gopalakrishna M R,Dennis Elwell,Robert S F.Electrocoating of silicon and its dependence on the time of electrolysis[J].Surface Technology,1981 (13):331-337.
  • 5Stubergh J R,Liu Zhonghua.Preparation of pure silicon by Electrowinning in a bytownite-crylite melt[J].Metallurgical and Materials Transactions B,1996(27B):895 -899.
  • 6何小凤,李运刚,李智慧.KCl-NaCl-NaF-SiO_2熔盐体系中硅离子的还原机理研究[J].有色金属(冶炼部分),2010(2):24-26. 被引量:4
  • 7段淑贞.难熔金属在熔盐氯化物体系中的电结晶的研究[C].第四届全国熔盐化学及电化学学术会议论文集,郑州,1987(4):1-4.
  • 8黄令,许书楷,汤皎宁,杨防祖,周绍民.Ni-Mo合金电沉积层织构及形成机理[J].电化学,1997,3(2):174-178. 被引量:5

二级参考文献9

  • 1王欢,叶小鹤,陈黎明,陆嘉星,何鸣元.离子液体中间硝基苯酚在玻碳电极上的电化学还原行为研究[J].高等学校化学学报,2005,26(2):326-329. 被引量:42
  • 2许书楷,杨防祖,周绍民.电沉积条件对锌镀层织构的影响[J].电化学,1995,1(4):408-414. 被引量:23
  • 3Fellner P, Matiasovsky K. Electrolytic silicide coating in fused salts[J]. Electrodeposition and Surface Treatment, 1975(3) :235-244.
  • 4Gopalakrishna M R, Dennis Elwell, Robert S F. Electrocoating of silicon and its dependence on the time of electrolysis[J]. Surface Technology, 1981 (13) : 331 - 337.
  • 5Jan R S, Zhonghua Liu. Preparation of pure silicon by Electrowinning in a bytownite--crylite melt[J]. Metallurgical and Materials Transactions B, 1996 (27B) : 895 - 899.
  • 6周仲柏,电极过程动力学基础教程,1989年,282页
  • 7吴纯素.熔盐电沉积技术进展.材料保护,1990,23(1):58-61.
  • 8段淑贞,乔芝郁.熔盐化学-原理和应用[M].北京:冶金工业出版社,1990.202-203.
  • 9何小凤,李运刚,田薇,梁精龙.SiO_2在KCl-NaCl-NaF体系中的溶解度及溶解机理[J].中国有色金属学报,2008,18(5):929-933. 被引量:26

共引文献13

同被引文献11

引证文献1

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部