智能化刻蚀系统有效降低硅片制造成本

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摘要应用材料公司（Applied MateriaIs）宣布推出强大的APPlied Centris AdvantEdgeMesa刻蚀系统。结构紧凑的Centris系统以前所未有的方式装配了8个反应腔，即6个划蚀反应腔和2个刻蚀后清洁腔，每小时可处理多达180片硅片，最多可将单片硅片的制造成本降低30％。

作者刘洋

出处《电子设计技术 EDN CHINA》 2011年第2期20-20,共1页 EDN CHINA

关键词刻蚀系统反应腔清洁腔应用材料公司

分类号 TN304.12 [电子电信—物理电子学]

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