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第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知
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摘要
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshopon Plasma—Based ion implantation & deposition,PBII&D2011)将于2011年9月8—12日在我国哈尔滨举行,同时举行产品展览。欢迎大家积极投稿,同时欢迎各参展单位联系展览。会议组织单位为哈尔滨工业大学和先进焊接与连接国家重点实验室等。
作者
吴忠振
出处
《真空》
CAS
北大核心
2011年第2期96-96,共1页
Vacuum
关键词
国际会议
离子注入
离子基
征稿通知
沉积
哈尔滨工业大学
国家重点实验室
PLASMA
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
引文网络
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