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EVG620HBL:自动光刻系统
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摘要
EVG推出EVG620HBL全自动光刻系统,以EVG光刻机平台为基础,旨在优化高亮度发光二极管(HB—LED)、复合半导体和动力电子设备的生产制造。EVG620HBL增加了—个高强度紫外线光源和五个向盒装卸台,可以不间断地制造设备。因此,EVG620HBL全自动光刻系统的产量增加,
出处
《世界电子元器件》
2011年第4期37-37,共1页
Global Electronics China
关键词
光刻系统
高亮度发光二极管
复合半导体
紫外线光源
生产制造
电子设备
制造设备
全自动
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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新技术能大幅降低深紫外线LED成本[J]
.现代材料动态,2014,0(10):21-22.
2
彭瑜,方占军,臧二军.
Tunable continuous ultraviolet light source based on diode laser[J]
.Chinese Optics Letters,2012,10(B06):131-133.
3
陈健,王庆康,李海华.
Far-field superlens for nanolithography[J]
.Chinese Physics B,2010,19(3):312-318.
4
李桂林(译).
采用InALGaN系列材料开发紫外短波高亮度LED[J]
.显示器件技术,2007(1):28-34.
5
高效紫外线光源及其方法[J]
.能量转换利用研究动态,2002(6):25-25.
6
Aaron Hand.
ASML选择Cymer公司EUV光源[J]
.集成电路应用,2007,24(11):30-30.
7
紫外线光源[J]
.中国照明电器光源灯具文摘,2005,25(1):42-43.
8
EVG晶圆键合——3DIC集成的关键技术[J]
.电子工业专用设备,2013(2):75-75.
9
郭亚坤,陈晨,田原,范红娜,王云彪.
锗抛光片清洗工艺研究[J]
.电子工业专用设备,2015,44(11):36-39.
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10
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