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超氧化物阴离子自由基对菌斑牙面氧化还原电位的影响 被引量:1

The effect of superoxide anion free radical on redox potential in dental plaque
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摘要 目的:验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系。方法:①测试菌斑氧化还原电位。②利用SOD作为干扰因素观察氧化还原电位的变化。结果:菌斑电位低于非菌斑牙面电位,为负电位。菌斑加SOD后使菌斑电位升高。结论:菌斑负电位与超氧化物阴离子自由基有关,自由基可能是菌斑负电位形成的主要因素。 Objective: To investigate the relationship between superoxide anion free radical and redox potential in dental plaque. Methods: Redox potential in dental plaque was measured before and after addition of SOD dilution to the same spot of the plaque,the changes of redox potential were observed. Results: Negative potential was observed on dental plaque.The addition of SOD increased the potential of dental plaque . Conclusions: Superoxide anion free radical seems to play a crucial role in the formation of negative potential of dental plaque.
出处 《实用口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期269-270,共2页 Journal of Practical Stomatology
关键词 牙菌斑 氧化-还原电位 龋齿 超氧化物 阴离子 Dental plaque Oxidationreduction potential Dental caries Superoxide Anions Free radicals Saperoxide dismutase
  • 相关文献

参考文献6

  • 1阎鹏,学位论文,1998年
  • 2王成龙,学位论文,1997年
  • 3张举之,口腔内科学(第3版),1995年,18页
  • 4黄力子,中华口腔医学杂志,1993年,28卷,3期,297页
  • 5樊明文,口腔医学新进展,1993年,2页
  • 6莫简,自由基生物学导论,1989年,19页

同被引文献9

引证文献1

二级引证文献1

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