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消除CMOS IC闭锁的外延加双保护环技术 被引量:1

The prevention of Latch-up in CMOS ICs by n^-/n+ Epi-layer and Double Guard Rings
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摘要 本文简要描述了CMOS集成电路的闭锁机理,提出了消除CMOS集成电路闭锁的n^-/n^+外延加双保护环结构;把这种结构用于CC4066电路,在5.6×10~8Gy/s的γ瞬时剂量率下进行辐照实验,电路均不发生闭锁。最后得出,外延加双保护环结构,对中小规模电路而言,是一种消除CMOS电路闭锁的有效方法。 A structure of n-/n+ epi-layer combined with double guard rings to prevent CM OS ICs from latcn-up is presented in this paper, which has been used in CC4066. No latchup was observed in the circuit at a transient dose rate of 5.6×108Gy/s. It is concluded that the structure of epi-layer plus double guard rings is an effective way to prevent CMOS ICs from latchup for medium-and small-scale integrated circuits.
作者 张正璠
出处 《微电子学》 CAS CSCD 1990年第4期7-10,共4页 Microelectronics
关键词 CMOS IC 闭锁 外延层 保护环 CMOS IC, latch-up, Epi-Iayer, Guard ring
  • 相关文献

同被引文献3

  • 1李开成.CMOS电路抗闭锁效应的若干方法[J]微电子学,1987(04).
  • 2马槐楠,徐葭生.两微米外延N阱CMOS艺的研究[J]半导体学报,1987(04).
  • 3童勤义,王国裕.整片集成与容错技术[J]微电子学与计算机,1986(03).

引证文献1

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