期刊文献+

金刚石薄膜合成技术 被引量:2

Synthesis of Diamond Thin Films
下载PDF
导出
摘要 作者对金刚石薄膜气相合成的历史,金刚石薄膜的沉积方法以及金刚石薄膜沉积技术的发展方向和应用前景进行了论述。 This paper describes the history and advancement of synthesizing diamond thin films,and also summerizes its advacing direction and application prospect.
作者 向军 饶丽
出处 《四川工业学院学报》 1999年第3期47-52,共6页 Journal of Sichuan University of Science and Technology
关键词 金刚石薄膜 气相沉积 合成 HFCVD diamond thin film vapor deposit
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献1

  • 1Seiichiro Matsumoto. Chemical vapour deposition of diamond in RF glow discharge[J] 1985,Journal of Materials Science Letters(5):600~602

共引文献2

同被引文献13

  • 1严东生 冯端.材料新星—纳米材料科学[M].长沙:湖南科学技术出版社,1998.38-41.
  • 2濑升(日) 等著 赵修建 等译.超微颗粒导论[M].武汉:武汉工业大学出版社,1991.8-16.
  • 3HGleiter(德)著 崔平 方永 葛庭燧译.纳米材料[M].北京:原子能出版社,1994.10-15.
  • 4[1]AvigaI,Y. The Effect of Silicon Surface Preparation on the Nucleation of Diamond by Chemical Vapor Deposition,Diamond and Related Materials, 1992, vol.1.
  • 5[2]Carringt0n et al.. Diamond Growth in O2+C2H4 and O2+C2H2 Flames,Metallurgical Transations, 1989, vol.20A.
  • 6Richter V, Ruthendorf M V. Hardness and toughness of ultrafine and nanocrystalline hard materials[J]. International Journal of Refractory Metals & Hard materials, 1999, 17: 141.
  • 7Zhang B, Li J B, Zhai H 7 Prospect of nanometer material[J]. J Euro Ceram Soc, 2001, 219: 126~129.
  • 8Hassan I U, Rego C A, et al. An investigation of the structural properties of diamond films deposited by pulsed bias enhanced hot filament CVD[J]. Thin Solid Films, 1999, 355: 134~138.
  • 9Friedericke Deuerler, Volker Buck, et al. Effect of hidden parameters for the plasma CVD synthesis of diamond films[J]. Surface and Coatings Technology,1998, 116: 428~439.
  • 10吴俊,王龙彪,黄清安,喻敬贤,陈永言.纳米材料的进展[J].电镀与精饰,1999,21(6):1-5. 被引量:15

引证文献2

二级引证文献4

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部