摘要
介绍了一种新型的定偏心式的锡磨盘的超精密平面抛光工艺。在建立了平面材料去除和抛光轨迹的数学模型的基础上，对微晶玻璃进行工艺实验。通过调整影响其精度的工艺装备及工艺参数，能够获得平面度为０．０４～０．０６μｍ ／３０ｍ ｍ ，表面粗糙度为Ｒａ０．３０ｍ ｍ 。
出处
《制造技术与机床》
CSCD
北大核心
1999年第12期41-43,共3页
Manufacturing Technology & Machine Tool
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