激光CVD

光CVD作为薄膜气象合成方法之一和热CVD、等离子CVD同样在薄膜生长技术中占有重要位置,近年来,由于准分子激光技术的发展,准分子激光CVD技术适应半导体工艺低温化和加工精细化的要求也迅速地发展起来。本文主要以准分子激光为重点介绍激光CVD的基本原理、目前发展概况及今后的研究课题与展望。