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激光CVD
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摘要
光CVD作为薄膜气象合成方法之一和热CVD、等离子CVD同样在薄膜生长技术中占有重要位置,近年来,由于准分子激光技术的发展,准分子激光CVD技术适应半导体工艺低温化和加工精细化的要求也迅速地发展起来。本文主要以准分子激光为重点介绍激光CVD的基本原理、目前发展概况及今后的研究课题与展望。
作者
张玉书
张庆有
丁涛
机构地区
吉林大学
出处
《微细加工技术》
1990年第1期26-28,共3页
Microfabrication Technology
关键词
激光CVD
薄膜
气象合成法
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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