φ300mm/0.18μm对栅极氧化层的要求及设备被引量：4

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摘要介绍了３００ｍｍ／０．１８μｍ对栅极氧化层的要求、生长极薄栅极氧化层的方法及其形成栅极氧化层的设备。

作者翁寿松

机构地区无锡市无线电元件四厂

出处《电子工业专用设备》 1999年第2期15-17,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词栅极氧化层热处理氧化层生长集成电路

同被引文献27

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电子工业专用设备

1999年第2期

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