摘要
对用作绝缘材料的高纯氧化铝中杂质的允许含量钾和钠量小于0.01%,铁量小于0.02%。关于其中杂质测定,有采用中子活化法进行检测,但该法费用高,周期长,不适于研究过程测试的要求。至于X射线荧光法测定高纯氧化铝,特别是直接压块法,尚未见有报导。本文通过实验,就此法的可行性进行了探讨。一、实验部分(一)测量条件仪器:[日]理学3070全自动荧光X射线光谱仪。激发源:铑靶X光管。管压与管流:50千伏,50毫安。其它测试条件如表1所示。
出处
《光谱实验室》
CAS
CSCD
1989年第5期239-242,共4页
Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory