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X射线源的真空蒸镀
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摘要
本文利用超高真空蒸发镀膜技术对x射线双阳极靶进行蒸镀,获得了良好性能的阳极靶.
作者
齐上雪
谢侃
机构地区
中国科学院物理研究所
出处
《物理》
CAS
北大核心
1990年第8期500-500,488,共2页
Physics
关键词
蒸镀
X射线源
真空蒸镀
阳极靶
分类号
TH838.306 [机械工程—精密仪器及机械]
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