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原子层外延

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摘要原子层外延是近几年发展起来的一种富有潜力的新型超薄层外延技术．本文试从表面吸附反应动力学角度出发，介绍这种工艺的基本原理和生长机理．最后简述了它在器件制作中的某些应用．

作者彭英才

机构地区河北大学电子系

出处《物理》 CAS 北大核心 1990年第12期733-738,共6页 Physics

关键词原子层外延半导体外延生长

分类号 TN304.054 [电子电信—物理电子学]

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参考文献2

1彭英才，物理，1988年，11期，673页
2匿名著者

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物理

1990年第12期

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