期刊文献+

国产磨料的杂质及研磨对硅片的污染分析 被引量:1

THE IMPURITY OF ABRASIVE MATERIALS MADE IN CHINA AND THE ANALYSIS OF CONTAMINATION OF SILICON PLATE FROM LAPPING
下载PDF
导出
摘要 本文研究了国产磨料的成分、杂质和磨料、磨具对硅片的污染,分析了铁对硅器件的危害,提出了减少污染的方法. The composition and impurity of abrasive materials made in china and the contamination or silicon plate from abrasive materials and abrasive tools are investigated,the damage or iron to silicon devices is analyzed,and ways in reducing the contamination are presented.
出处 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第6期123-128,58,共7页 Journal of Xi'an Jiaotong University
关键词 杂质 研磨 磨料 污染 silicon abrasive contamination
  • 相关文献

参考文献4

  • 1张德贤,西安交通大学学报,1988年,21卷,3期,123页
  • 2黄淑菊,金属腐蚀与防护,1988年
  • 3张德贤,电力电子技术,1987年,4期,48页
  • 4匿名著者,国外电子技术,1976年,3期,63页

同被引文献4

  • 1张德贤,西安交通大学学报,1988年,3期,123页
  • 2张德贤,电力电子技术,1987年,4卷,48页
  • 3张德贤,西安交通大学学报,1985年,1期,111页
  • 4徐传骧,高压硅半导体器件耐压与表面绝缘技术,1981年

引证文献1

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部