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光诱导MOCVD技术现状及前景展望 被引量:1

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摘要 本文评述了光诱导MOCVD技术的发展水平和技术进展。着重从生长动力学的角度介绍了光诱导MOCVD技术的原理、实验装置和光源的选取。并总结了可供借鉴的光诱导MOCVD的淀积规律,最后展望了该技术的未来。
作者 宋登元
机构地区 河北大学
出处 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第5期371-376,共6页 Chinese Journal of Rare Metals
  • 相关文献

参考文献1

  • 1邱明新,周政卓,李丁,沈光平.激光诱导固体表面化学过程的若干研究[J]中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学),1987(11).

同被引文献8

引证文献1

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