氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)

Research Progress on Oxide Crystals and Thin Films

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摘要在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与氧化物晶体及薄膜有关的三个研究方向。 Oxide materials are most popular in electronics field from the industrial revolutions.Up to the present,research trend is down sizing to a small scale even in oxide crystals from the viewpoint of nanotechnology.Research target is also changed dramatically for several years.Here author＇s three research topics that related to oxide bulk single crystals and thin films are introduced.

作者木村秀夫赵洪阳姚启文程振祥王小林

机构地区日本国立物质材料研究机构澳大利亚卧龙岗大学电子材料研究所

出处《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期789-795,共7页 Journal of Synthetic Crystals

基金 Project supported by grants fromJSPS Grant-in-Aid for Scientific Research(C)(21605012) Grant-in-Aid for JSPS Fellows(21-09608 and 22-00796) JSPS and ARC under Japan-Australia Research Cooperative Program

关键词体晶体薄膜压电性铁电性多铁性光催化 bulk crystals thin films piezoelectric ferroelectric multiferroic photocatalyst

分类号 TN304.053 [电子电信—物理电子学]

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参考文献14

1Kimura H, Tanahashi R, Zhao H Y, et al. Crystal Growth of Alkali Metal Ion Doped Potassium Niobate Fiber Single Crystals[J]. Opt. Mater. , 2010,32 (7) :735-738.
2Kimura H, Tanahashi R, Zhao H Y, et al. Electric Properties of Alkali Metal Doped potassium Niobate Crystals[J]. accepted in Ceram. Int. = > (in press) Ceram. Int. DOI: 10. 1016/j. ceramint. 2011.04. 061.
3Kimura H, Tanahashi R, Zhao H Y, et al. Crystal Growth and Electric-property Change by Rubidium or Cesium Doping on Potassium- sodium- niobate[ J]. Cryst. Res. Technol. ,2011,46( 1 ) :37-40.
4Zhao H Y, Kimura H, Cheng Z X, Wang X L and Nishida T. Room Temperature Multiferroic Properties of Nd: BiFeO3/Bi2FeMnO6 Bilayered Films[ J ]. Appl. Phys. Lett. ,2009,95 (23) :232904.
5Kimura H, Tanahmhi R, Ozawa K, et al. Cation Doped TiO2 Films by Pulsed Laser Deposition Method and Their Photocatalysis Effects ~ J ]. Tram. JSASS Aerospace Tech. Japan,2010, 8(ists237) :Pc_l.Pc _4.
6Luh B Y S, Feigelson R S, Fejer M M, et al. Ferroelectric Domain Structures in LiNbO3 Single -crystal Fibers[J]. J. Cryst. Growth,1986,78 ( 1 ) :135-143.
7Kimura H, Miyazaki A, Maiwa K, et al. Deviation from Stoichiometry of KNbO3 Crystal in Fiber Shape Grown Using the Pulling-down technique [ J 1. Opt. Mater,2007,30 ( 1 ) :198-200.
8Bi L, Taussig A R, Kim H S, et al. Structural, Magnetic, and Optical Properties of BiFeO3 and Bi2FeMnO6 Epitaxial Thin Films: An Experimental and First-principles Study[ J ]. Phys. Rev. B,2008,78 (10) : 104106.
9Wu J G, Kang G Q, Liu H J, et al. Ferromagnetic, Ferroelectrie, and Fatigue Behavior of ( 111 ) -oriented BiFeO3/( Bil.,2 Nal/2 ) TiO3 Lead-free Bilayered Thin Films[ J J. Appl. Phys. Lett. ,2009,94(17) :172906.
10Scott J F. Ferroelectric Memories[ B]. Springer, Berlin 2000,Chap. 6.

1晶体生长设备系列产品[J].西安理工大学学报,2004,20(1):53-53.
2陆宝生.激光晶体的研究和发展动向[J].压电与声光,1993,15(5):38-41.
3梁秀梅.Y60A单晶炉慢速提拉控制系统设计[J].电子工业专用设备,2001,30(3):34-37.
4郭瑞萍,李静,孙葆森.国外红外探测器材料技术新进展[J].兵器材料科学与工程,2009,32(3):96-99. 被引量：8
5訾玉宝,焦兴利,王海峰,刘亲壮,殷志珍,张福恒,黄振,吴文彬.Mn掺杂对多铁性BiFeO_3薄膜铁电性能以及漏电流的影响[J].低温物理学报,2009,31(4):280-285. 被引量：12
6胡易.一般切割面的铋硅族氧化物光折变增益特性及动态光栅优化[J].物理学报,2005,54(11):5428-5434. 被引量：2
7戴中华,杜楠,姚熹.放电等离子烧结铁酸铋陶瓷的组织与性能[J].南昌航空大学学报（自然科学版）,2011,25(1):1-6. 被引量：1
8关于举办“国际先进光电材料实物展览”的通知[J].红外,2008,29(4).
9戴中华,杜楠.高密度BiFeO_3陶瓷的制备与介电性能[J].电子元件与材料,2011,30(6):1-4. 被引量：3
10我国在多铁性铁酸铋外延薄膜受极化调制的导电特性研究取得进展[J].功能材料信息,2011,8(3):51-52.

人工晶体学报

2011年第3期

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