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大视场紫外高均匀照明光学系统构成原理和光能分布模拟计算 被引量：3

Construction principle of i line illumination optical system and simulation calculation of the intensity distribution
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摘要 叙述紫外（ｉ 线）均匀照明光学系统构成原理和光能分布模拟计算设计方法。举例说明用开发的模拟设计软件ＯＰＴＥＮＧ，设计和模拟计算了一个大视场均匀照明光学系统，在照明面积为１００ｍ ｍ ×１００ｍ ｍ 范围内，照明光能分布不均匀性小于±２ ％ 。 The optical design methods of uniform illumination for microlithography …construction principle of optical system and simulation calculation of intensity distribution are described. For example, an i line illumination optical system with illumination area 100mm×100mm is calculated by using the simulation software OPTENG and the illumination uniformity of ±2%could be realized.
作者 林大键 周崇喜 尹燕
机构地区 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处 《微细加工技术》 1999年第4期24-27,共4页 Microfabrication Technology
关键词 光学系统 紫外光 均匀照明 光能分布 曝光 光刻 i line Illumination Optical system Simulation calculation
分类号 TN242 [电子电信—物理电子学] TN305.7 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献4

  • 1林大健，Engineering Optical System Design，1987年
  • 2王永仲，新光学系统的计算机设计，1993年
  • 3Yan Qihua，Proceedings of the Sino.Japan Symposium on Engieering Optics，1992年
  • 4尹燕,林大键.通用光线光路计算公式[J].光学工程,1989(2):1-10. 被引量：4

共引文献8

同被引文献16

  • 1李尧.紫外、远紫外光刻共用的曝光系统[J].电子工业专用设备,1995,24(1):30-34. 被引量：1
  • 2Kahng A B, Pati Y C. Sub wavelength Optical Lithography:Challenges and Impact on Physical Design [ C ]. Proc. ACM Intl. Symp. on Physical Design, 1999: 112 -119.
  • 3Dolainsky C, Maurer W. Application of a simple resist model to fast optical proximity correction [ J ] . Proc. SPIE, 1997 (3051 ) :774 - 780.
  • 4Shi Rui, Cai Yici, Hong Xianlong, et al. Important works about rules in rules-based optical proximity correction [ J ]. Chinese Journal of Semiconductors, 2002,23 (7) : 701 - 706.
  • 5Shi Rui, Cai Yici, Hong Xianlong, et al. The selection and creation of the rules in rules-based optical proximity correction [ C ]. - 53 Proceeding of the 4th International Conference on ASIC, Shanghai,2001 : 50.
  • 6Liu Yong, Avideh Zakhor. Binary and phase-shifting mask design for optical lithography [ J ]. IEEE Trans. Semicond. Manufact. , 1992,5 (2) : 138 - 152.
  • 7Valiev K A, Velikov L V, Volkov G S, et al. The coherence factors of excimer laser radiation in projection lithography [ J ]. J. Vac. Sci. Technol. B, 1989,7 (6) : 1616-1619.
  • 8Max Born,Emil Wolf. Principles of Optics [ M]. 7^th edition. United States of America: Cambridge University Press, 1999.
  • 9Valiev K A, Velikov L V, Volkov G S, et al.The coherence factors of excimer laser radiation in projection lithography[J]. J Vac Sci Technol B, 1989,7(6):1 616-1 619.
  • 10波恩M，沃耳夫E.光学原理[M]．北京：科学出版社，1975：694-696．

引证文献3

二级引证文献5

微细加工技术
1999年 第4期

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