气相等离子刻蚀终点动态监控技术

Dynamic Monitoring Technique of Gas Plasma Etching Endooint

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摘要本文介绍了气相等离子刻蚀终点监控的几种方法,并着重讨论了光学发射光谱法在终点动态监控中的应用。 Several methods for gas plasma etching endpoint monitoring are described Optical emission spectrometry used in endpoint dynamic monitoring is emphatically discussed.

作者丁峰郑全利

机构地区上海光学仪器研究所

出处《光学仪器》 1989年第5期17-22,共6页 Optical Instruments

关键词等离子刻蚀动态监控发射光谱法

分类号 TN405.982 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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1989年第5期

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