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MFC在单晶炉上控制氩气流量的应用

Application of Mass Flow Controller Controlling Argon Gas Flow in Single Crystal Furnace
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摘要 目前单晶炉设备全自动控制技术日趋成熟。单晶硅炉拉晶生长过程中,炉体内的真空度稳定性是一个重要的环节。质量流量控制器MFC对于维持单晶炉内真空值起着极其重要的作用。 Automatic control equipment is currently single crystal furnace technology has matured. Growth process of silicon crystal pulling furnace, the furnace body of the vacutm, stability is an important part. Mass Flow Controller MFC values for the maintenance of single-crystal furnace vacuum plays an extremely important role.
出处 《低温与特气》 CAS 2011年第4期37-39,共3页 Low Temperature and Specialty Gases
关键词 单晶硅炉 氩气 质量流量控制器 真空度 silicon furnace argon gas mass flow controller vacuum
  • 相关文献

参考文献2

  • 1中国市场调查网.2009-2010年中国硅单晶设备产业行业运行状况分析[R].北京:中国市场调查网,2010.
  • 2诸玲珍.单晶炉:全自动化是方向[N].中国电子报,2008-12-30(8).

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