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化学气相沉积(CVD)法制晶体金刚石的机理
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摘要
引言现在正用低压气体来制造晶体金刚石而不是过去传统考虑的高温高压。生产金刚石的气相沉积过程所用的温度和压力条件对碳来说其稳定形式是石墨。然而。
作者
K.E.Spear
M.Frenklach
立早
出处
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
1990年第2期60-61,共2页
New Carbon Materials
关键词
化学气相沉积
晶体
金刚石
CVD
分类号
O613.71 [理学—无机化学]
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