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干涉法测量SiO_2层厚度

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摘要本文从干涉原理出发,介绍干涉现象在半导体工艺上的应用。

作者王林

出处《信阳师范学院学报（自然科学版）》 CAS 1990年第1期44-46,共3页 Journal of Xinyang Normal University(Natural Science Edition)

关键词 SiO2层干涉法半导体工艺测量

分类号 TN307 [电子电信—物理电子学]

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信阳师范学院学报（自然科学版）

1990年第1期

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