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光CVD法制作电子薄膜材料

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摘要在近几年来的电子器件制备中,对三维的各方向均提出了微细化和在平面内均匀性等高精度和优良的可控性要求.为此,对新的薄膜制法和加工方法进行了广泛的研究,为新型电子器件的实现做出了很大的贡献.最近几年,在薄膜制备中采用光能的方法引起了人们的关注.

作者藤田静雄藤田茂夫郭秀芬

机构地区日.京都大学

出处《压电与声光》 CSCD 北大核心 1990年第1期70-76,共7页 Piezoelectrics & Acoustooptics

关键词光 CVD法电子薄膜电子材料

分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]

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