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摘要一种真空镀膜成图方法、专用设备及制品专利申请号：CN200810183536．6公开号：CNl01746958A申请日：2008．12．18公开日：2010．06．23申请人：温晋奕本发明公开了两种真空镀膜成图方法，其中方法一包括如下步骤：1）制备玻璃胚体；2）在该玻璃胚体需要成图的内侧表面部位进行成图预处理；制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；

作者王元荪

出处《玻璃》 2011年第10期57-60,共4页 Glass

关键词专利文摘成图方法真空镀膜专利申请号专用设备申请人公开号预处理

分类号 P285.23 [天文地球—地图制图学与地理信息工程]

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