摘要
X760.31 200501060 从半导体工厂废溶剂中回收异丙醇=Recovery of isopropyl alcohol from waste solvent of a semiconductor plant[刊,英]/Sheng H.Lin…//J.Hazard.Materi..- 2004,106(2/3).-161~168 国图半导体生产过程中产生废液的主要特征是含有高浓度异丙醇(IPA)约占65%,其它有机物和高色度。由于这些特征。
出处
《环境工程技术学报》
CAS
2005年第2期65-66,共2页
Journal of Environmental Engineering Technology